Thông tin chính:

• Ký hiệu: Ar

• Số nguyên tử: 18

• Trạng thái: khí, không màu, không mùi

• Mật độ: 1.784 kg/m³ (nặng hơn không khí)

• Tính chất: khí trơ, không phản ứng hóa học

Ứng dụng:

• Khí sputtering trong coating / PVD

• Khí bảo vệ khi hàn (TIG, MIG)

• Khí bảo vệ trong sản xuất bán dẫn

• Khí bảo vệ chống oxy hóa

Trong sputtering:

• Argon bị ion hóa → Ar⁺

• Ar⁺ bắn vào target → tạo lớp phủ lên wafer/crystal

Ưu điểm:

• Ổn định

• Không phản ứng với vật liệu

• Giúp plasma ổn định